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J-GLOBAL ID：200903057158712676

ポジチブ処理用感放射線組成物およびこれを使用するレリーフ構造体の製造方法

Inventor： ラインホルト、シュヴァルム ,  ディルク、フンホフ ,  ホルスト、ビンダー
Applicant, Patent owner： ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト
Agent (1)： 田代 烝治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996240821
Publication number (International publication number)：1997127700
Application date： Sep. 11, 1996
Publication date： May. 16, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 極めて良好な感光性、処理特性、改善されたコントラストを示すレリーフ構造体、ことに印刷版体を提供する。【解決手段】 酸不安定基を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となる、少なくとも1種類の水不溶性有機ポリマー結合剤または水に不溶性であり、アルカリ水溶液に可溶性であるポリマー結合剤および酸の作用により、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大せしめられる低分子量有機化合物と、化学作用放射線の作用下に酸を形成する少なくとも1種類の有機化合物と、上記とは異なる、1種類もしくは複数種類のさらに他の有機化合物とを含有し、上記組成分が式(I)の結合基を含有しているか、あるいは組成分が式(II)で表わされ、かつ上記Rが炭素原子数1から6のアルキルを、nが1から6の数値を意味する化合物である、ポジチブ処理用感放射線組成物。

Claim (excerpt)：

(a1)酸不安定基を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となる、少なくとも1種類の水不溶性有機ポリマー結合剤または(a2.1)水に不溶性であり、アルカリ水溶液に可溶性であるポリマー結合剤および(a2.2)酸の作用により、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大せしめられる低分子量有機化合物と、(b)化学作用放射線の作用下に酸を形成する少なくとも1種類の有機化合物と、(c)上記(b)とは異なる、1種類もしくは複数種類のさらに他の有機化合物とを含有し、上記組成分(a1)、(a2.1)、(a2.2)、(b)および(c)の少なくとも1組成分が式【化1】の結合基を含有しているか、あるいは組成分(c)が式(II)【化2】で表わされ、かつ上記Rが炭素原子数1から6のアルキルを、nが1から6の数値を意味する化合物であることを特徴とするとする、ポジチブ処理用感放射線組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/30 502 R