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J-GLOBAL ID：200903057232230719

ヒドロキシアパタイトおよびその製造方法

Inventor： 佐藤 光史
Applicant, Patent owner： 佐藤 光史 ,  池田 芳則 ,  原 広樹
Agent (2)： 角田 芳末 ,  磯山 弘信
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003369385
Publication number (International publication number)：2005132659
Application date： Oct. 29, 2003
Publication date： May. 26, 2005
Summary：

【課題】ヒドロキシアパタイトの新規な製造方法を提供する。【解決手段】溶媒にカルシウムの塩または錯体と、少なくともリン化合物とを加える第1の工程と、酸化剤を加える第2の工程を含む。別法として溶媒に、カルシウムの塩または錯体と、酸化剤と、少なくともリン化合物とを加える方法もある。カルシウムの塩または錯体として、エチレンジアミンN,N,N’,N’四酢酸カルシウム塩、またはニトリロ三酢酸カルシウム塩を用いる。これらの化合物はカルシウム以外に水溶性金属イオンを含有しても構わないが、高純度なヒドロキシアパタイトを合成するために、Ca以外の金属がないことが望ましい。リン化合物として、リン酸またはリン酸水素二アンモニウムを用いる。第1の工程では、さらにアミン、または、アンモニウムイオンを有する化合物を加えることができる。第2の工程では、脱溶媒後に酸化剤を加えるか、溶液中に酸化剤を加えることができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

溶媒に、カルシウムと塩または錯体を作っている化合物と、少なくともリン化合物とを加える第1の工程と、 酸化剤を加える第2の工程を含む ことを特徴とするヒドロキシアパタイトの製造方法。

IPC (1)：

C01B25/32

FI (1)：

C01B25/32 V