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J-GLOBAL ID：200903057245226397

二波長レーザ加工光学装置およびレーザ加工方法

Inventor：
三浦 宏

About 三浦 宏


Applicant, Patent owner：
財団法人 浜松科学技術研究振興会

About 財団法人 浜松科学技術研究振興会


Agent (1)： 朝日奈 宗太 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000004702
Publication number (International publication number)：2001196665
Application date： Jan. 13, 2000
Publication date： Jul. 19, 2001
Summary：
【要約】【課題】 レーザビームの利用効率がたかくて加工性がよく、高価な光学部品の使用数の削減されたレーザ加工光学装置を提供する。【解決手段】 レーザ加工光学装置において、長波長と短波長の2つのレーザと、前記2つのレーザの出力ビームを同軸の光路に導いて重畳させる光学系と、同軸の光路に重畳した前記2つのレーザの出力ビームを被加工物上に集光する集光レンズとを備え、前記光学系が、一方のレーザの出力ビームを全反射し他方のレーザの出力ビームを透過させるダイクロイックミラーを前記集光レンズの直前に備え、前記短波長のレーザが、エキシマレーザ、アレキサンドライトレーザ、YAG高調波レーザまたは半導体レーザのいずれかからなる。
Claim (excerpt)：
長波長と短波長の2つのレーザと、前記2つのレーザの出力ビームを同軸の光路に導いて重畳させる光学系と、同軸の光路に重畳した前記2つのレーザの出力ビームを被加工物上に集光する集光レンズとを備え、前記光学系が、一方のレーザの出力ビームを全反射し他方のレーザの出力ビームを透過させるダイクロイックミラーを前記集光レンズの直前に備え、前記短波長のレーザが、エキシマレーザ、アレキサンドライトレーザ、YAG高調波レーザまたは半導体レーザのいずれかからなるレーザ加工光学装置。
IPC (3)：
H01S 3/00 ,  B23K 26/06 ,  G02B 17/08
FI (3)：
H01S 3/00 B ,  B23K 26/06 A ,  G02B 17/08 Z
F-Term (25)：
2H087KA26 ,  2H087LA26 ,  2H087NA03 ,  2H087NA04 ,  2H087RA48 ,  4E068CA01 ,  4E068CA04 ,  4E068CA05 ,  4E068CD02 ,  4E068CD12 ,  5F072AA05 ,  5F072AA06 ,  5F072AB01 ,  5F072AB05 ,  5F072AB13 ,  5F072AB20 ,  5F072JJ08 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK30 ,  5F072MM08 ,  5F072QQ02 ,  5F072RR01 ,  5F072RR03 ,  5F072RR05 ,  5F072YY06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
  • 特開平1-245992
  • 特開平4-065154
  • レーザーはんだ付け装置用光源
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-107444   Applicant：新日本製鐵株式会社
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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