Pat
J-GLOBAL ID：200903057257658560
KrFエキシマレーザー用光学材料の検査方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
浅野 豊司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993077488
Publication number (International publication number)：1994265470
Application date： Mar. 12, 1993
Publication date： Sep. 22, 1994
Summary：
【要約】【目的】 KrFエキシマレーザー光を長時間透過させたときに220nm付近に吸収の生じない材料を短時間で選別する。【構成】 合成石英ガラスに、ArFエキシマレーザーを照射し、KrFエキシマレーザー光を透過させたときに220nm付近の吸収の生じない材料を選別する合成石英ガラスの検査方法。
Claim (excerpt)：
合成石英ガラスに、ArFエキシマレーザーを照射し、KrFエキシマレーザー光を透過させたときに吸収の生じない材料を選別する合成石英ガラスの検査方法。
IPC (3)：
G01N 21/33
, G01M 11/00
, G01N 33/38
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
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