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J-GLOBAL ID：200903057270310076
シミュレーション方法及び投影光学設計方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992184811
Publication number (International publication number)：1994005487
Application date： Jun. 19, 1992
Publication date： Jan. 14, 1994
Summary：
【要約】【目的】 従来の投影露光方式に加え、斜入射照明方式による投影露光のコントラストや露光強度分布も計算できるようにする。【構成】 物面マスク上のパターンを投影光学系を介してウエハ上に投影露光する投影露光法の像露光強度特性をシミュレーションする方法において、任意の光源の条件で、かつ任意の入射瞳条件で、マスクの空間波数を変えてコントラストおよび/または(最大露光強度+最小露光強度)/2で表される平均露光強度を算出する。
Claim (excerpt)：
物面マスク上のパターンを投影光学系を介してウエハ上に投影露光する投影露光法の像露光強度特性をシミュレーションする方法において、任意の光源の条件で、かつ任意の入射瞳条件で、マスクの空間波数を変えてコントラストおよび/または(最大露光強度+最小露光強度)/2で表される平均露光強度を算出することを特徴とするシミュレーション方法。
Patent cited by the Patent：
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