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J-GLOBAL ID：200903057290968019

浮遊粒子群の濃度と粒度の空間分布の測定方法と装置

Inventor： 林 茂 ,  清水 盛生
Applicant, Patent owner： 科学技術庁航空宇宙技術研究所長
Agent (1)： 佐藤 文男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994019808
Publication number (International publication number)：1995209169
Application date： Jan. 21, 1994
Publication date： Aug. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】 比較的大きい空間中において、浮遊粒子群にレーザービームを照射して得られる前方微小角散乱光を、その集光面に配置した環状光ディテクタで検出し、得られた散乱光のパターンから浮遊粒子の濃度および粒径のみならず、その空間分布を測定できる実用的な方法と装置とを得ようとする。【構成】 レーザー光等の細い平行光を、被測定粒子群の分布域にわたって該光束と垂直方向に走査し、得られる前方微小角散乱光を、その集光面に配置した環状光ディテクタで検出し、時系列的に得られた散乱光のパターンから浮遊粒子の濃度、粒径およびその空間分布を測定する。測定装置は、既知の速度で回転する反射鏡4と、測定対象の粒子群の寸法と同程度の大きさの口径の入射レンズ6を使用し、測定空間8において平行光束が粒子群を高速で走査する。

Claim (excerpt)：

細い単色平行光を、被測定粒子群の分布域にわたって該平行光束と垂直方向に走査し、得られる前方微小角散乱光を、その集光面に配置した環状光ディテクタで検出し、時系列的に得られた散乱光のパターンから浮遊粒子の濃度、粒径およびその空間分布を測定することを特徴とする浮遊粒子群の濃度と粒度の空間分布の測定方法

IPC (2)：

G01N 15/02 ,  G01N 21/49

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭60-184568
  
• 特開昭62-044646