Pat
J-GLOBAL ID:200903057304649388
セグメント化された炭化水素-フッ化炭化水素スルホネートアニオンを有するイオン光酸発生剤
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 永坂 友康
, 西山 雅也
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2004550062
Publication number (International publication number):2006504785
Application date: Oct. 10, 2003
Publication date: Feb. 09, 2006
Summary:
光活性カチオン部分およびセグメント化された高度にフッ素化された炭化水素アニオン部分を含む光酸発生剤塩が開示され、光酸発生剤塩は高い光酸強度を提供し、溶解度および極性に関して調整することが可能である。本発明は、ミクロ平版印刷のためのフォトレジストおよび光重合のような用途のための光開始酸触媒プロセスにおいて用いられるような光酸発生剤に更に関連する。
Claim (excerpt):
(a)i.遷移金属含有有機金属カチオン
ii.有機オニウムカチオンまたは
iii.それらの混合物
の少なくとも1種を含むカチオンおよび
(b)式-O3S-Rf-Q-(Rh-Zm)n
(式中、
Rfは高度にフッ素化された二価アルキレン部分であり、
Rhは炭化水素部分であり、
nは1〜2であり、
mは独立して1〜3であり、
Q基は、共有結合、
IPC (6):
C07C 311/09
, C07C 25/02
, C08F 2/50
, C08G 59/68
, G03F 7/004
, G03F 7/029
FI (6):
C07C311/09
, C07C25/02
, C08F2/50
, C08G59/68
, G03F7/004 503A
, G03F7/029
F-Term (30):
2H025AA01
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025CA48
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB81
, 4H006EA21
, 4J011AA05
, 4J011AC04
, 4J011QA01
, 4J011QA03
, 4J011QA06
, 4J011QA13
, 4J011QA23
, 4J011QA24
, 4J011SA61
, 4J011SA83
, 4J011SA87
, 4J011VA01
, 4J011WA01
, 4J036AA01
, 4J036GA01
, 4J036GA26
, 4J036HA02
, 4J036JA09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-321128
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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スルホニウム塩化合物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-369910
Applicant:和光純薬工業株式会社
-
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-065051
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
光酸発生化合物、及びポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-057067
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
スルホニウム塩の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-381430
Applicant:サンアプロ株式会社
-
電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-032878
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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