透明導電膜形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998236035
Publication number (International publication number)：2000067666
Application date： Aug. 21, 1998
Publication date： Mar. 03, 2000
Summary：

【要約】【課題】低抵抗で抵抗安定性に優れる透明導電膜を簡便な方法で得られる透明導電膜形成方法の提供。【解決手段】酸化インジウムと酸化錫とを含む透明導電膜の形成方法において、塗布液を塗布する工程1、非酸化性雰囲気下で300°C以上に加熱する工程2、再度、塗布液を塗布する工程3、再度、300°C以上に加熱する工程4とをこの順で行う透明導電膜形成方法。

Claim (excerpt)：

酸化インジウムと酸化錫とを含む透明導電膜の形成方法において、透明基体上に、熱分解で酸化インジウムとなるインジウム化合物と、熱分解で酸化錫となる錫化合物とを含む塗布液を塗布する工程1と、非酸化性雰囲気下で300°C以上に加熱して被膜を形成する工程2と、再度、熱分解で酸化インジウムとなるインジウム化合物と、熱分解で酸化錫となる錫化合物とを含む塗布液を塗布する工程3と、再度、300°C以上に加熱する工程4と、をこの順で行うことを特徴とする透明導電膜形成方法。

IPC (2)：

H01B 13/00 503 , C03C 17/27

FI (2)：

H01B 13/00 503 B , C03C 17/27

F-Term (12)：

4G059AA01 , 4G059AC12 , 4G059EA02 , 4G059EA03 , 4G059EA07 , 4G059EB05 , 5G323BA03 , 5G323BA04 , 5G323BB01 , 5G323BB02 , 5G323BB06 , 5G323BC01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

透明導電膜およびその形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-237311 Applicant：三菱マテリアル株式会社
特開平2-120374
透明導電膜およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-276809 Applicant：住友金属鉱山株式会社

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