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J-GLOBAL ID:200903057329637880
TiPd系形状記憶合金
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
後藤 洋介 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991273463
Publication number (International publication number):1993078765
Application date: Sep. 26, 1991
Publication date: Mar. 30, 1993
Summary:
【要約】【目的】 高温作動機能と良好な加工性とを具えたTiPd系形状記憶合金を低コストで提供すること。【構成】Tiが49〜51原子%で残部が実質的にPdからなる形状記憶合金において、Pdの一部がWにより電子濃度(e/a)が約7.0以上8.0未満となるように置換されている。
Claim (excerpt):
Tiが49〜51原子%で残部が実質的にPdからなる形状記憶合金であって、Pdの一部がWにより電子濃度(e/a)が約7.0以上8.0未満となるように置換されていることを特徴とするTiPd系形状記憶合金。
IPC (2):
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