フォトニッククリスタル導波路の製造方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：前田弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001026403
Publication number (International publication number)：2002228868
Application date： Feb. 02, 2001
Publication date： Aug. 14, 2002
Summary：

【要約】【課題】同一構造の導波路を大量生産する場合でも、製造コストが低く且つ各導波路毎の特性のバラツキが小さいフォトニッククリスタル導波路の製造方法を提供する。【解決手段】中実の第1ロッド材2,2,...と屈折率が相互に異なる内側部及び外側部を有する第2ロッド材3,3,...とをそれぞれ複数本ずつ準備し、複数本の第1ロッド材2,2,...及び複数本の第2ロッド材3,3,...を束端面に第1ロッド材2,2,...によって所定の導波路パターンを形成し且つ第2ロッド材3,3,...の内側部によって所定の格子パターンを形成するように束ねてロッド材束4を作製した後、そのロッド材束4を加熱延伸加工により細径化して繊維状体を作製し、その繊維状体を所定厚さにスライスすることによりフォトニッククリスタル導波路を製造する。

Claim (excerpt)：

中実の第1ロッド材と、屈折率が相互に異なる内側部及び外側部を有する第2ロッド材と、をそれぞれ複数本ずつ準備し、上記複数本の第1ロッド材及び複数本の第2ロッド材を、束端面に該第1ロッド材によって所定の導波路パターンを形成し且つ該第2ロッド材の内側部によって所定の格子パターンを形成するように束ねてロッド材束を作製した後、上記ロッド材束を加熱延伸加工により細径化して繊維状体を作製し、上記繊維状体を所定厚さにスライスすることでフォトニッククリスタル導波路を製造する、ことを特徴とするフォトニッククリスタル導波路の製造方法。

IPC (2)：

G02B 6/13 , G02B 6/12

FI (3)：

G02B 6/12 M , G02B 6/12 Z , G02B 6/12 N

F-Term (7)：

2H047KA03 , 2H047LA12 , 2H047PA00 , 2H047PA24 , 2H047PA26 , 2H047QA04 , 2H047TA41

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

フォトニクス構造体の製造方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-562315 Applicant：コーニング・インコーポレーテッド
特開昭61-067805
特開昭61-072208

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