Pat
J-GLOBAL ID：200903057346803085

シリルケテンアセタール及びジシリルケテンアセタールの製造方法

Inventor：
清森 歩

About 清森 歩

, 
久保田 透

About 久保田 透


Applicant, Patent owner：
信越化学工業株式会社

About 信越化学工業株式会社


Agent (4)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004092623
Publication number (International publication number)：2004339200
Application date： Mar. 26, 2004
Publication date： Dec. 02, 2004
Summary：
【解決手段】 式(1)のα,β-不飽和カルボン酸エステルと、式(2)のヒドロシラン又はヒドロシロキサンとをトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン存在下に反応させる式(3)のシリルケテンアセタールの製造方法。 【化1】(R1、R2、R3はH又は一価炭化水素基、R4は一価炭化水素基又はSi-H結合を含まないシリル基) 【化2】(Ra、Rb、Rcは一価炭化水素基、オルガノキシ基、オルガノ(ポリ)シロキシ基及びハロゲン原子から選ばれる基) 【化3】【効果】 本発明により、塩等の副生成物がなく、高純度のシリルケテンアセタール及びジシリルケテンアセタールを高収率で製造する方法を提供することができる。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)で表されるα,β-不飽和カルボン酸エステルと、下記一般式(2)で表されるヒドロシラン又はヒドロシロキサンとを触媒量のトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン存在下に反応させることを特徴とする、下記一般式(3)で表されるシリルケテンアセタールの製造方法。
IPC (2)：
C07F7/08 ,  C07F7/12
FI (3)：
C07F7/08 C ,  C07F7/08 X ,  C07F7/12 X
F-Term (21)：
4H039CA61 ,  4H039CA92 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VP02 ,  4H049VP10 ,  4H049VQ01 ,  4H049VQ03 ,  4H049VQ20 ,  4H049VQ21 ,  4H049VQ79 ,  4H049VR21 ,  4H049VR22 ,  4H049VR23 ,  4H049VR24 ,  4H049VR41 ,  4H049VR42 ,  4H049VR43 ,  4H049VR44 ,  4H049VS02 ,  4H049VS21
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (11)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM