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J-GLOBAL ID：200903057363904120

化学増幅型ポジ型レジスト組成物およびそのための共重合体

Inventor：
藤島 浩晃

About 藤島 浩晃

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上谷 保則

About 上谷 保則

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宮 芳子

About 宮 芳子


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997278570
Publication number (International publication number)：1999002903
Application date： Oct. 13, 1997
Publication date： Jan. 06, 1999
Summary：
【要約】【課題】 感度や解像度などのレジスト性能が良好で、基板への接着性にも優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供し、またその樹脂成分となる共重合体を提供する。【解決手段】 下式(I)および(II)、任意にさらに下式(III) の構造単位を有する共重合体が提供され、またそれを樹脂成分とし、さらに酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物が提供される。式中、R1 およびR2 は、水素、水酸基を有してもよいアルキル、水酸基もしくは基 -COOCH(CH3)OC2H4-R3を表すか、またはR1 とR2 とで、カルボン酸無水物残基を形成するか、もしくは基 -COOCH(CH3)OC2H4-R3を有してもよい2価の炭化水素残基を形成し、ここでR3 は水素、アルキルまたは脂環式カルボニロキシを表し、R5 は水素またはメチル、R6 は脂環式基、Xは直接結合、炭素数1〜4のアルキレンまたはシクロへキシレン、mおよびnは0または1を表す。
Claim (excerpt)：
下式(I)および(II)〔式中、R1 およびR2 は互いに独立に、水素、水酸基を有してもよいアルキル、水酸基もしくは基 -COOCH(CH3)OC2H4-R3を表すか、またはR1 とR2 が一緒になって、-C(=O)OC(=O)- で示されるカルボン酸無水物残基を形成するか、もしくは基 -COOCH(CH3)OC2H4-R3を有してもよい2価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素残基を形成し、ここで、R3 は水素、アルキルまたは -OCOR4 を表し、ここにR4 は脂環式基を表す〕〔式中、R5 は水素またはメチルを表し、R6 は脂環式基を表し、Xは直接結合、炭素数1〜4のアルキレンまたはシクロへキシレンを表し、mおよびnは互いに独立に0または1を表す〕で示される各構造単位を有する樹脂、および酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (6)：
G03F 7/039 601 ,  C08F222/06 ,  C08F222/14 ,  C08F232/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (6)：
G03F 7/039 601 ,  C08F222/06 ,  C08F222/14 ,  C08F232/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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