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J-GLOBAL ID：200903057378103077
ガスバリアー性高分子フィルムおよびその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山本 秀策
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992348895
Publication number (International publication number)：1994192819
Application date： Dec. 28, 1992
Publication date： Jul. 12, 1994
Summary：
【要約】【目的】透明高分子フィルム基板とその上に形成された酸化珪素薄膜を有するガスバリアー性高分子フィルムであって、ガスバリアー性に優れ、かつ該基板と該薄膜との付着力が良好なガスバリアー性高分子フィルムを提供する。【構成】透明高分子フィルム基板の上に、SiOx(1.3≦x≦1.8)でなる厚さ200〜1000オングストロームの酸化珪素薄膜が形成されたガスバリアー性高分子フィルムであって、該ガスバリアー性高分子フィルムの水蒸気透過率が1g/m2/日以下であり、かつ該高分子フィルム基板に対する該酸化珪素薄膜の剥離強度が100g/cm以上であるガスバリアー性高分子フィルム。
Claim (excerpt)：
透明高分子フィルム基板の上に、SiOx(1.3≦x≦1.8)でなる厚さ200〜1000オングストロームの酸化珪素薄膜が形成されたガスバリアー性高分子フィルムであって、該ガスバリアー性高分子フィルムの水蒸気透過率が1g/m2/日以下であり、かつ該高分子フィルム基板に対する該酸化珪素薄膜の剥離強度が100g/cm以上であるガスバリアー性高分子フィルム。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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