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J-GLOBAL ID:200903057401786837
表面処理用薬液の再利用方法及び装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999194974
Publication number (International publication number):2001017839
Application date: Jul. 08, 1999
Publication date: Jan. 23, 2001
Summary:
【要約】【課題】 従来技術における再生剤や水洗水との分離の困難性の問題や再生後の水洗に多量の水を必要とするという問題を解決することができる表面処理用薬液の再利用方法及び装置を提供する。【解決手段】 基板の表面処理ないし洗浄にイオン交換樹脂2aを分散した超純水14を処理液として使用し、使用後の処理液を電気透析装置1の脱イオン室1aに供給して通電脱塩することにより再生し、再生後の再生液2を処理液として循環再利用する。
Claim (excerpt):
基板の表面処理ないし洗浄にイオン交換樹脂を分散した超純水を処理液として使用し、使用後の処理液を電気透析装置の脱イオン室に供給して通電脱塩することにより再生し、再生後の再生液を処理液として循環再利用することを特徴とする表面処理用薬液の再利用方法。
IPC (4):
B01D 61/44 500
, B01D 61/46
, C02F 1/42
, C02F 1/469
FI (4):
B01D 61/44 500
, B01D 61/46
, C02F 1/42 B
, C02F 1/46 103
F-Term (30):
4D006GA17
, 4D006JA43Z
, 4D006KA01
, 4D006KB11
, 4D006MA03
, 4D006MA13
, 4D006MA14
, 4D006PA01
, 4D006PB08
, 4D006PB20
, 4D006PC01
, 4D025AA09
, 4D025AB06
, 4D025AB07
, 4D025AB14
, 4D025AB22
, 4D025AB23
, 4D025BA22
, 4D025BB01
, 4D025BB04
, 4D025BB18
, 4D025DA06
, 4D061DA08
, 4D061DB20
, 4D061EA09
, 4D061EB04
, 4D061EB13
, 4D061EB17
, 4D061EB19
, 4D061FA08
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