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J-GLOBAL ID：200903057405278089

パラ-アセトキシスチレンの製造方法

Inventor： 石川 真一 ,  江口 久雄
Applicant, Patent owner： 東ソー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999104072
Publication number (International publication number)：2000191598
Application date： Apr. 12, 1999
Publication date： Jul. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 従来の問題点を解決し、経済性及び安全性に優れたPACSの製造法を提供する。【解決手段】 パラ-第三級-ブトキシスチレンを、触媒(但し、脂肪族カルボン酸を除く)の存在下に無水酢酸と反応させる。

Claim (excerpt)：

パラ-第三級-ブトキシスチレンを、触媒(但し、脂肪族カルボン酸を除く)の存在下に無水酢酸と反応させることを特徴とするパラ-アセトキシスチレンの製造方法。

IPC (5)：

C07C 69/157 ,  B01J 27/02 ,  B01J 31/04 ,  C07C 67/08 ,  C07B 61/00 300

FI (5)：

C07C 69/157 ,  B01J 27/02 X ,  B01J 31/04 X ,  C07C 67/08 ,  C07B 61/00 300

F-Term (10)：

4H006AA02 ,  4H006AC48 ,  4H006BA36 ,  4H006BA52 ,  4H006BA66 ,  4H006BJ50 ,  4H006KA18 ,  4H039CA66 ,  4H039CD40 ,  4H039CD90

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• スチレン誘導体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-300493   Applicant：本州化学工業株式会社, 大阪市
• アセトキシスチレン類の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-357554   Applicant：本州化学工業株式会社
• 特開昭63-150245
  
• 特開平1-106835