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J-GLOBAL ID：200903057417365769

2光子吸収組成物

Inventor： 稲垣 由夫 ,  秋葉 雅温
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001212310
Publication number (International publication number)：2003027040
Application date： Jul. 12, 2001
Publication date： Jan. 29, 2003
Summary：

【要約】【課題】比較的低パワーのレーザーを用いて2光子吸収を惹起できるような高感度の2光子吸収組成物を提供する。【解決手段】2光子吸収断面積が102GM(ただし1GM=1×10-50cm4 s mole cule-1photon-1)以上である2光子吸収化合物と蛍光消光剤とを含有することを特徴とする2光子吸収組成物。

Claim (excerpt)：

2光子吸収断面積が102GM(ただし1GM=1×10-50cm4 s mole cule-1 photon-1)以上である2光子吸収化合物と蛍光消光剤とを含有することを特徴とする2光子吸収組成物。

IPC (4)：

C09K 3/00 ,  B41M 5/26 ,  C08F 2/50 ,  G11B 7/24 516

FI (4)：

C09K 3/00 U ,  C08F 2/50 ,  G11B 7/24 516 ,  B41M 5/26 Y

F-Term (34)：

2H111EA03 ,  2H111EA04 ,  2H111EA21 ,  2H111EA33 ,  2H111EA37 ,  2H111FA04 ,  2H111FB41 ,  2H111FB42 ,  2H111FB63 ,  4J011QA03 ,  4J011QA05 ,  4J011QA08 ,  4J011QA19 ,  4J011QA26 ,  4J011QA34 ,  4J011QA37 ,  4J011QA38 ,  4J011QA39 ,  4J011QA40 ,  4J011QA46 ,  4J011SA01 ,  4J011SA07 ,  4J011SA31 ,  4J011SA51 ,  4J011SA76 ,  4J011SA78 ,  4J011SA79 ,  4J011SA84 ,  4J011SA86 ,  4J011SA87 ,  4J011UA02 ,  4J011WA07 ,  4J011WA10 ,  5D029JA04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 多光子感光化システム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2002-510544   Applicant：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
• 構造を製作するか又は物品に構造を付加するための方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2002-510581   Applicant：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー