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J-GLOBAL ID:200903057418771922

ガスハイドレート連続製造方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山田 恒光 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002137267
Publication number (International publication number):2003327980
Application date: May. 13, 2002
Publication date: Nov. 19, 2003
Summary:
【要約】【課題】 反応容器内で水とハイドレート形成ガスとを反応させて生成したガスハイドレートを連続的に安定して取り出せるようにして高効率なガスハイドレートの製造を可能にする。【解決手段】 反応容器1に所定レベルを保持するよう水を供給すると共に反応容器1内が所定圧力範囲に保持されるようハイドレート形成ガスを供給して所定の冷却温度で接触させることによりガスハイドレートを生成するガスハイドレート連続製造方法であって、液面に生成するガスハイドレートを回転する掻き寄せ羽根15にて反応容器1の中心側に移動させることにより集合し、集合したガスハイドレートを鉛直方向に設けた取出管17により反応容器1の下部に取り出す。
Claim (excerpt):
反応容器に所定レベルを保持するよう水を供給すると共に反応容器内が所定圧力範囲に保持されるようハイドレート形成ガスを供給して所定の冷却温度で接触させることによりガスハイドレートを生成するガスハイドレート連続製造方法であって、液面に生成するガスハイドレートを回転する掻き寄せ羽根にて反応容器の中心側に移動させることにより集合し、集合したガスハイドレートを鉛直方向に設けた取出管により反応容器の下部に取り出すことを特徴とするガスハイドレート連続製造方法。
IPC (6):
C10L 3/06 ,  C07B 61/00 ,  C07B 63/02 ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04
FI (6):
C07B 61/00 C ,  C07B 63/02 B ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04 ,  C10L 3/00 A
F-Term (5):
4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC93 ,  4H006BD81 ,  4H006BE60
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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