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J-GLOBAL ID：200903057422419591

縦型減圧化学気相成長装置

Inventor： 金子 利幸
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991318759
Publication number (International publication number)：1993211122
Application date： Dec. 03, 1991
Publication date： Aug. 20, 1993
Summary：

【要約】【目的】炉芯管9内の反応ガス濃度を一様にし、ボート10に収納されるウェーハの膜質を均一にする。【構成】比重の重いガスを供給するガス供給管1と、これに対応するガス排気管2とをボート10を挾んで配置し、ガス供給口5及びガス排気口6を上側に行く程大きくしてより大きいコンダクタンスをもたせ、供給されるガスの流量を上部より多くし、ガスの降下による濃度不均一を抑えている。

Claim (excerpt)：

ウェーハを並べて収納するボートと、このボートを包む炉芯管とを有する縦型減圧化学気相成長装置において、前記ボートを挾み配置されるとともに上下に複数の大きさの異なるガス供給口及びガス排気口をそれぞれもつガス供給管及びガス排気管とを備えることを特徴とする縦型減圧化学気相成長装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/22

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭60-200522
  
• 特開昭61-068393