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J-GLOBAL ID：200903057438742643
超解像走査光学装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
前田 弘 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994026586
Publication number (International publication number)：1995234382
Application date： Feb. 24, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：
【要約】【目的】 シンプルな光学系により、等価的に回折限界の約1/2の集光ビーム系での2次元走査を可能とする超解像走査光学装置を実現する。【構成】 直線偏光の第1のコヒーレント光源100から出射する光ビームは主ビームとして対物レンズ105を介してプレパラート106に集光される。第2のコヒーレント光源112から出射する副ビームは主ビームとは偏光面が互いに直交する直線偏光ビームであり、同じくプレパラート106の面上に主ビームと中心位置及び主要部サイズが一致する双峰状ビームとして集光される。両ビームはプレパラート106上を重畳された様態のもとに走査される。両ビームはプレパラート106を透過した後、第2の偏光性ビームスプリッタ108を通過することにより主ビームと副ビームとに分離され、第1及び第2の光検出器110,120において別々に検出される。第1及び第2の光検出器110,120からの出力信号は差動演算器124により演算され、第2の制御手段128を介して表示装置129に表示される。
Claim (excerpt)：
主ビームとなる第1のコヒーレント光を発する第1のコヒーレント光源と、上記第1のコヒーレント光の偏光面と直交する偏光面を有するか又は上記第1のコヒーレント光の波長と異なる波長を有する第2のコヒーレント光を発する第2のコヒーレント光源と、上記第2のコヒーレント光の入射を受け、光軸に垂直な面内でビーム中心の少なくとも両側にピーク値を持ちビーム主要部のサイズが上記主ビームの主要部のサイズと実質的に等しい光強度分布を有する副ビームを出射する位相板と、上記第1のコヒーレント光源から出射された主ビームと上記位相板から出射された副ビームとを重畳せしめて被走査面に集光する集光手段と、上記主ビームと副ビームとが重畳してなる光ビームを上記被走査面に走査させる走査手段と、上記被走査面を透過してきた光ビーム又は被走査面から反射してきた光ビームの入射を受け、該光ビームを主ビームと副ビームとに偏光分離又は波長分離して出射する光分離手段と、該光分離手段から出射された主ビーム及び副ビームの光強度を別々に検出して光強度信号を出力する光検出手段と、該光検出手段から出力された光強度信号に基づき超解像走査信号を演算して出力する演算手段とを備えていることを特徴とする超解像走査光学装置。
IPC (4)：
G02B 27/58
, G02B 21/00
, G02B 26/10
, H04N 1/113
