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J-GLOBAL ID：200903057453316170

微小光学開口の形成方法

Inventor： 桑原 恒男
Applicant, Patent owner： ティーディーケイ株式会社
Agent (1)： 石井 陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995021261
Publication number (International publication number)：1996194102
Application date： Jan. 13, 1995
Publication date： Jul. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 フォトマスクや近視野光学におけるエバネッセント光用開口に好適な微小光学開口を、低コストかつ短時間で形成できる方法を提供する。【構成】 下部透明層31と上部透明層33とに挟まれたマスク層32に、変調されたレーザビームを集光することにより、マスク層32の集光部の厚さを不可逆的に減少させて光透過率を増加させ、光学開口30とする。

Claim (excerpt)：

下部透明層と上部透明層とに挟まれたマスク層に、変調されたレーザビームを集光することにより、マスク層の集光部の厚さを不可逆的に減少させて光透過率を増加させ、光学開口とする微小光学開口の形成方法。

IPC (3)：

G02B 5/00 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開昭56-150829
  
• 特開昭56-150828
  
• 特開昭59-121302