Pat
J-GLOBAL ID:200903057490093408
垂直磁気記録媒体およびその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
谷 義一
, 阿部 和夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003059103
Publication number (International publication number):2004272958
Application date: Mar. 05, 2003
Publication date: Sep. 30, 2004
Summary:
【課題】低ノイズかつ高記録密度の垂直磁気記録媒体およびその製造方法を提供すること。【解決手段】CoPt合金またはFePt合金もしくはCr、Ni、Nb、Ta、Bのうちの少なくとも1種の元素を添加したCoPt合金またはFePt合金からなる強磁性結晶粒と、Cr、Co、Si、Al、Ti、Ta、Hf、Zr、Y、Ceのうちの少なくとも1種の酸化物もしくは窒化物からなる非磁性粒界とからなるグラニュラーの磁気記録層13を、希ガスと酸素ガスの混合ガス雰囲気中で成膜することとした。ここで、グラニュラーの磁気記録層13の成膜に先立って予め下地層12の表面を「ガス暴露」する場合には混合ガスの酸素分圧比(O2/(希ガス+O2))を0.05〜2.00体積%とし、「ガス暴露」しない場合には酸素分圧比(O2/(希ガス+O2))を0.25〜4.00体積%とした。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
下地層成膜後の当該下地層の表面上に、希ガスに酸素ガスを添加した混合ガス雰囲気中で磁気記録層を成膜するステップを備え、
前記混合ガスの酸素分圧比O2/(希ガス+O2)が0.25〜4.00体積%であることを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (17):
5D006BB01
, 5D006BB07
, 5D006BB08
, 5D006CA03
, 5D006CA05
, 5D006CA06
, 5D006DA08
, 5D006EA03
, 5D006FA09
, 5D112AA05
, 5D112BB02
, 5D112BB06
, 5D112BB08
, 5D112FA04
, 5D112FB20
, 5D112GA02
, 5D112GA18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-301089
Applicant:日立マクセル株式会社
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磁気記録媒体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-001928
Applicant:富士電機株式会社
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垂直磁気記録媒体および磁気記憶装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-191551
Applicant:株式会社日立製作所
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