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J-GLOBAL ID：200903057498634467

低屈折率膜、低反射膜、及び低反射帯電防止膜

Inventor： 阿部 啓介 ,  真田 恭宏 ,  森本 剛 ,  平塚 和也 ,  竹宮 聡 ,  久保田 恵子
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Agent (1)： 泉名 謙治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992098910
Publication number (International publication number)：1993270864
Application date： Mar. 25, 1992
Publication date： Oct. 19, 1993
Summary：

【要約】【構成】SiアルコキサイドとZr(C5 H7 O2 )n (OR)m を含む塗布液を塗布後、加熱かつ/又は紫外線照射により低屈折率膜を形成する。ガラス基体上に、SnO2 :Sb等の導電性微粒子を含みTiO2 等からなる導電性高屈折率層を形成した後、上記方法で低屈折率膜を形成して、2層からなる低反射帯電防止膜を製造する。【効果】耐擦傷性に優れた低反射帯電防止膜を提供できる。

Claim (excerpt)：

Si化合物とZr(C5 H7 O2 )n (OR)m (但しn+m=4,n=1〜3,m=1〜3,R:C1 〜C4 のアルキル基)を含む塗布液を基体上に塗布した後、加熱かつ/又は紫外線照射により形成された低屈折率膜。

IPC (4)：

C03C 17/25 ,  G02B 1/10 ,  H01J 29/28 ,  G02B 5/28