放射線照射装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：吉田研二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998342044
Publication number (International publication number)：2000167029
Application date： Dec. 01, 1998
Publication date： Jun. 20, 2000
Summary：

【要約】【課題】食品等の殺菌等を行う放射線照射において、被照射物全体での一様な線量分布を実現する照射条件を自動的に求める。【解決手段】 X線CTユニット6により被照射物2の断層像を撮影し、照射条件決定部8はその断層像に基づく被照射物2の密度分布を取得する。照射条件決定部8は、密度分布に基づいて、被照射物2内部での線量分布の変動が所定幅に抑制される照射条件を探索する。照射制御部16は当該照射条件に基づいて放射線照射ユニット14を制御し、ベルトコンベア10により放射線照射ユニット14へ搬送された被照射物2に当該照射条件に従った放射線照射が行われる。

Claim (excerpt)：

放射線を照射して滅菌、殺菌、殺虫又は発芽防止を行う放射線照射装置において、放射線照射方向の断層像を撮影し被照射物の密度分布を取得する断層撮影手段と、前記密度分布に基づいて、前記被照射物中での照射放射線の線量分布の変動を所定の基準幅以下に抑制するように照射条件を定める照射条件決定手段と、を有し、放射線照射手段を制御して前記照射条件に応じた放射線照射を実施することを特徴とする放射線照射装置。

IPC (2)：

A61L 2/08 , A23L 3/26

FI (2)：

A61L 2/08 , A23L 3/26

F-Term (16)：

4B021LA07 , 4B021LP10 , 4B021LT02 , 4B021LT03 , 4B021LT06 , 4B021LW02 , 4B021LW07 , 4B021LW09 , 4C058AA12 , 4C058AA30 , 4C058BB06 , 4C058CC01 , 4C058CC02 , 4C058KK03 , 4C058KK21 , 4C058KK32

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平4-108451
特開平3-297476
特開平4-309373

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