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J-GLOBAL ID:200903057533863040

レーザマーキング装置および方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996316659
Publication number (International publication number):1998156560
Application date: Nov. 27, 1996
Publication date: Jun. 16, 1998
Summary:
【要約】【課題】 良好な加工深さを得るとともに、加工速度を向上する。【解決手段】 被加工物上の一箇所に複数回Qスイッチレーザ光を照射して一つのドットを形成する過程で、メモリ1に予め格納された加工プログラムにしたがって制御部2が、Qスイッチ素子を制御して、共振器3から出力されるQスイッチレーザ光の発振周波数を第1の周波数から該第1の周波数よりも高い第2の周波数に変化させる。
Claim (excerpt):
被加工物上の一箇所に複数回Qスイッチレーザ光を照射して一つのドットを形成するレーザマーキング装置であって、前記一つのドットを形成する過程で、前記Qスイッチレーザ光の発振周波数を第1の周波数から該第1の周波数よりも高い第2の周波数に変化させる手段を備えることを特徴とするレーザマーキング装置。
IPC (3):
B23K 26/00 ,  H01L 23/00 ,  H01S 3/11
FI (4):
B23K 26/00 B ,  B23K 26/00 N ,  H01L 23/00 A ,  H01S 3/11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平2-205281

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