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J-GLOBAL ID：200903057538460424

プラズマ生成方法とその生成装置及びプラズマ処理方法

Inventor： 掛樋 豊 ,  川崎 義直 ,  鈴木 敬三 ,  野尻 一男 ,  榎並 弘充 ,  加治 哲徳 ,  渡辺 成一 ,  小川 芳文
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993013260
Publication number (International publication number)：1993275196
Application date： Jan. 29, 1993
Publication date： Oct. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】大口径ウエハに対応したマイクロ波プラズマ処理装置の大径放電領域に安定したプラズマを生成させる。【構成】大径の導波管5内にモードフィルタ20を設け、マイクロ波発生器1から発振され導波管5内を伝播する高次モードを含んだ複数モードを有するマイクロ波を、略単一モードのマイクロ波に制限して放電室8に入射させ、放電領域内でモード間の振動を防止して安定したプラズマを得る。

Claim (excerpt)：

放電室に導波管を介してマイクロ波を導入し、前記放電室内にプラズマを発生させるプラズマ生成方法において、前記導波管を伝播する高次モードを含んだ複数モードを有するマイクロ波を略単一モードのマイクロ波に伝播モードの数を制限し、該略単一モードのマイクロ波により前記放電室内でプラズマを生成することを特徴とするプラズマ生成方法。

IPC (4)：

H05H 1/46 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/31