マレイミド系単量体とその製造方法、脂肪族環状オレフィン系単量体とその製造方法、共重合体樹脂とその製造方法、フォトレジストとその製造方法、および半導体素子

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：荒船博司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998293899
Publication number (International publication number)：1999228536
Application date： Oct. 15, 1998
Publication date： Aug. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 2.38%TMAH現像液に耐える物性を有し、しかも、高い接着性を有するフォトレジストを提供する。【解決手段】一般式(1)のマレイミド系単量体の少なくとも一つから得られる、共重合体樹脂を含有するフォトレジストである。【化1】前記式中、Rは炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換されたアルキル基や、炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換された1級、2級あるいは3級アルコール基や、炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換されたジオール基を示す。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるマレイミド系単量体。【化1】前記式中、Rは炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換されたアルキル基、炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換された1級、2級、または3級アルコール、炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換されたジオールを示す。

IPC (10)：

C07D207/448 , C07C 51/347 , C07C 61/29 , C07C 69/753 , C07D207/452 , C08F222/06 , C08F222/40 , C08F232/04 , C08F232/08 , G03F 7/039 601

FI (10)：

C07D207/448 , C07C 51/347 , C07C 61/29 , C07C 69/753 C , C07D207/452 , C08F222/06 , C08F222/40 , C08F232/04 , C08F232/08 , G03F 7/039 601

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平2-268156
ポジ型放射線レジストとレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-099967 Applicant：富士通株式会社
光重合性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-348644 Applicant：日本油脂株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

1.3.2エステルの加水分解
Velocity of reaction in mixed solvents. VII. The influence of the base on the velocity of saponifica

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