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J-GLOBAL ID：200903057565009734

プラズマ処理装置

Inventor： 上 馬 俊 之 ,  武 藤 真
Applicant, Patent owner： 芝浦メカトロニクス株式会社
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000290271
Publication number (International publication number)：2002100499
Application date： Sep. 25, 2000
Publication date： Apr. 05, 2002
Summary：

【要約】【課題】 マイクロ波導波管の内部のマイクロ波の定在波の分布を制御することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 マイクロ波Mが導入される側と反対側のマイクロ波導波管10の端部の内部に、マイクロ波導波管10の管軸方向に沿って移動できるように可動部材14を設ける。可動部材14は、マイクロ波導波管10のH面11及びE面12の両方に対して垂直な反射面15を含み、反射面15はマイクロ波導波管10内を伝播したマイクロ波Mを反射する。

Claim (excerpt)：

プロセスガスにマイクロ波を照射して生成したプラズマを利用して真空下において被処理物を処理するための処理室が内部に形成された真空容器と、前記真空容器に形成された開口を閉塞する、誘電体で形成されたマイクロ波透過窓部材と、マイクロ波発生器にて生成されたマイクロ波をプラズマ生成領域まで導くためのマイクロ波導波管であって、前記マイクロ波透過窓部材に対向し、前記マイクロ波の電界方向に垂直なH面、前記H面に対して垂直で、前記マイクロ波の電界方向に平行なE面、及び前記マイクロ波透過窓部材に向けて前記マイクロ波を放射するために前記H面に形成されたスリット、を有するマイクロ波導波管と、前記マイクロ波が導入される側と反対側の前記マイクロ波導波管の端部の内部に、前記マイクロ波導波管の管軸方向に沿って移動できるように設けられた可動部材であって、前記H面及び前記E面の両方に対して垂直で、前記マイクロ波導波管内を伝播した前記マイクロ波を反射するための反射面を含む可動部材と、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/511 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (5)：

H05H 1/46 B ,  C23C 16/511 ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

F-Term (24)：

4K030FA01 ,  4K030FA17 ,  4K030HA12 ,  4K030JA20 ,  4K030KA41 ,  4K030KA49 ,  4K057DA16 ,  4K057DB06 ,  4K057DB20 ,  4K057DD01 ,  4K057DM02 ,  4K057DM29 ,  4K057DN01 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB18 ,  5F004CA08 ,  5F045AA09 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045EF05 ,  5F045EH03 ,  5F045EH19