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J-GLOBAL ID：200903057570030024

ITO粉末の低抵抗化処理方法

Inventor： 小島 守一
Applicant, Patent owner： 住友金属鉱山株式会社
Agent (1)： 岩見谷 周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991206338
Publication number (International publication number)：1993024837
Application date： Jul. 23, 1991
Publication date： Feb. 02, 1993
Summary：

【要約】【構成】 本発明のITO粉末の低抵抗化処理方法は、ITO粉末をアルコールガス含有不活性ガス雰囲気中で 200〜450 °Cの温度での加熱処理を行なうことを特徴とする。【効果】 上記加熱処理により、ITO粉末の凝集を生じることなく、安定に脱酸素が行なわれて酸素の格子欠陥が生じ、低抵抗化が行なわれる。処理されたITO粉末は、塗布によるITO膜の形成に使用される。

Claim (excerpt)：

ITO粉末を、アルコールガスを含有する不活性ガス雰囲気中で加熱することを特徴とするITO粉末の低抵抗化処理方法。