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J-GLOBAL ID:200903057579185675
デイスクスピンコーテイング装置
Inventor:
,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
影井 俊次
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991101723
Publication number (International publication number):1993115827
Application date: Apr. 08, 1991
Publication date: May. 14, 1993
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 危険な揮発ガスの漏出及びコーティング剤の跳ね返りを防止する。【構成】 第1の周壁13と第2の周壁14との間に流入通路20を形成し、第2の周壁14と第3の周壁15との間に排出通路22を形成し、第3の周壁15と第4の周壁16との間に吸引通路24を形成してこれによりディスク2の外周縁部から飛散したコーティング剤を第3の周壁15の一部を構成する傾斜壁部15dにより下方に向けて跳ね返らせて、ディスク2に再付着するのを防止し、揮発ガスを回収するために、給管26から吹き出し口21を介して流入通路20を経て、第2の周壁14の上端折り曲げ部14dと第3の周壁15における水平壁部15fとの間から排出通路22に至り、排気口23から排出される第1の回収用流路と、ディスク2の上面と蓋体11との間の空間部から吸引通路24を経て吸引口25に至る第2の回収用流路が形成されている。
Claim (excerpt):
閉塞可能な蓋体を備えたチャンバ内にスピンドルを設け、該スピンドルにディスクを水平状態に装架して、該ディスクを高速回転する間に、コーティング剤をスピンコートするためのものにおいて、前記スピンドルを囲む円環状の流入通路と、該流入通路に連通し、前記ディスクの外周縁部に対面するように下方に向かって広がる傾斜壁を備えた排出通路とを有し、前記流入通路からディスク配設部を介して排出通路に向けての揮発ガスの回収用流路を形成すると共に、前記排出通路の外側には第2の回収用流路を形成する吸引通路を設ける構成としたことを特徴とするディスクスピンコーティング装置。
IPC (3):
B05C 11/08
, G11B 7/26 531
, G03F 7/16 502
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