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J-GLOBAL ID：200903057580580790

ポリマー組成物及びそのポリマーの製造方法

Inventor： トーマス ダブリュー.スミス ,  ティモシー ジェイ.フラー ,  ラム エス.ナラン ,  デイビッド ジェイ.ルカ
Applicant, Patent owner： ゼロックス コーポレイション
Agent (1)： 中島 淳 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997233820
Publication number (International publication number)：1998097073
Application date： Aug. 29, 1997
Publication date： Apr. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】 熱的安定性、低熱膨張率、化学的安定性、耐水性、耐溶剤性、低誘電率、機械特性、接着特性に優れた光パターン形成可能ポリマー組成物及びそのポリマーの製造方法を提供する。【解決手段】 重量平均分子量が約1,000〜約100,000であるポリマー組成物であって、前記ポリマーが化学線に露光したときにそのポリマーの架橋又は鎖延長を可能にする第一感光性供与置換基を有する少なくとも幾つかのモノマー繰り返し単位を含み、約140°C以上の温度にさらしたときにポリマーの更なる架橋又は鎖延長を可能にする第二感熱性供与置換基も含み、前記第一置換基は前記第二置換基と同じではなく、前記ポリマーが特性構造を有するポリマー組成物を提供する。

Claim (excerpt)：

重量平均分子量が約1,000〜約100,000であるポリマーを含む組成物であって、前記ポリマーが、化学線に露光したときにそのポリマーの架橋又は鎖延長を可能にする第一感光性供与置換基を有する少なくとも幾つかのモノマー繰り返し単位を含み、前記ポリマーは約140°C以上の温度にさらしたときにポリマーの更なる架橋又は鎖延長を可能にする第二感熱性供与置換基も含み、前記第一置換基は前記第二置換基と同じではなく、前記ポリマーがポリスルホン、ポリフェニレン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアリーレンエーテル、ポリフェニレン硫化物、ポリアリーレンエーテルケトン、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリキノキサリン、ポリキノリン、ポリベンズイミダゾール、ポリベンズオキサゾール、ポリベンゾチアゾール、ポリオキサジアゾール、これらのコポリマー、及びこれらの混合物からなる群より選択される、ポリマー組成物。

IPC (3)：

G03F 7/038 505 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/038 505 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-202518
  
• 特開平4-183707
  
• 特開昭55-011217