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J-GLOBAL ID：200903057580796300

位置決めデバイス、基板保持装置、及び該装置を備えた露光装置

Inventor： 小野 一也
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997063164
Publication number (International publication number)：1998256355
Application date： Mar. 17, 1997
Publication date： Sep. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】 半導体ウエハ等の基板の裏面の異物によってその基板が歪まないようにすると共に、その基板の位置決めを高速且つ高精度に行う。【解決手段】 ウエハホルダ4の表面に形成された給気孔12A〜12D,13A〜13Iから圧縮空気を吹き出してウエハホルダ4の上方にウエハWを浮上させて保持する。ウエハホルダ4内に配置された駆動ユニット17A〜17Iは、それぞれウエハWに対して水平方向にローレンツ力よりなる駆動力を発生すると共に、静電吸引力を発生してウエハWまでの間隔を制御する。駆動ユニット17A〜17Iによるローレンツ力を介してウエハWの水平方向の位置及び回転角を制御し、駆動ユニット17A〜17Iによる静電吸引力を個別に調整してウエハWの曲がりを補正する。

Claim (excerpt)：

電気的導体よりなる基板を所定のベース上に保持する基板保持装置であって、前記基板を前記ベース上に浮上させる浮上装置と、前記基板に電流を誘起させる電流発生部及び該電流発生部によって誘起される電流と交差する方向に磁場を発生する磁場発生部を備え、前記基板に対して前記電流及び磁場の方向と直交する方向にローレンツ力よりなる駆動力を発生させる駆動力発生装置と、前記基板の変位を検出する変位検出装置と、を有し、前記変位検出装置の検出結果に基づき前記駆動力発生装置を介して前記基板を位置決め保持することを特徴とする基板保持装置。

IPC (4)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (4)：

H01L 21/68 N ,  B23Q 3/15 D ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 515 G