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J-GLOBAL ID：200903057613889598

リサイクル型レジストプロセス

Inventor： 浜野 恵 ,  竹原 裕子 ,  竹元 一成 ,  菊池 廣
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995183821
Publication number (International publication number)：1997034121
Application date： Jul. 20, 1995
Publication date： Feb. 07, 1997
Summary：

【要約】【構成】レジスト塗布プロセスで、回転塗布時に飛散したレジスト液を固化する前に回収し濾過,減圧蒸留処理を行って再生する。現像プロセスで使用された現像液をイオン交換処理によって分離再生する。剥離プロセスで使用された剥離液を、蒸留処理によって分離再生する。再生処理を有する各プロセスを適宜組み合わせてリサイクル型レジストプロセスを構成する。【効果】各プロセスで使用された後の廃処理液を再生処理して再使用することが可能であり、原料費や廃棄物処理費用などの経済的負担が軽減でき、更に環境への影響も軽減可能なリサイクル型レジストプロセスが提供できる。

Claim (excerpt)：

液状レジストを滴下した基板を回転させることにより前記基板の表面にレジストを塗布するレジスト塗布プロセスにおいて、回転によって前記基板から振り切られた余分のレジストを回収して再利用することを特徴とするリサイクル型レジスト塗布プロセス。

IPC (7)：

G03F 7/16 502 ,  C02F 1/04 ,  C02F 1/44 ,  C23F 1/00 102 ,  G03C 5/00 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/16 502 ,  C02F 1/04 D ,  C02F 1/44 F ,  C23F 1/00 102 ,  G03C 5/00 A ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/30 564 C