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J-GLOBAL ID：200903057631839344

酸化物薄膜の製造方法

Inventor： 大喜多 宏隆
Applicant, Patent owner： ブラザー工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998111909
Publication number (International publication number)：1999302896
Application date： Apr. 22, 1998
Publication date： Nov. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】 欠陥がなく信頼性の高い酸化物薄膜を、安価かつ簡単な設備によって効率的に製造する。【解決手段】 目的酸化物を構成する金属種を含んだ水溶液中に基板と対極を浸し、カソード電解とアノード電解を交互に繰り返すパルス電解を行うことにより、膜の電析とその脱水を行いながら堆積させてゆくことで、乾燥時の膜の収縮による欠陥の発生を防ぐと同時に、時間とともにパルスの休止期間の比率を下げてゆき、堆積速度の低下により休止期間が余分に続いて膜が溶解してしまうのを防ぐ。

Claim (excerpt)：

導電性材料からなる基板と、導電性を有する対極とを、目的の酸化物を構成する金属種を含んだ水溶液中に浸し、基板をマイナス側にして電流を通電する電解処理を、所定の休止期間をはさんで繰り返し行う酸化物薄膜製造方法において、電解の進行に従って前記休止期間を短くすることを特徴とする酸化物薄膜の製造方法。