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J-GLOBAL ID：200903057640696874

指紋認識のためのセンサ装置およびその製造方法

Inventor： トーマス シヤイター ,  マルクス ビーブル ,  ヘルムート クローゼ
Applicant, Patent owner： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
Agent (1)： 富村 潔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993287247
Publication number (International publication number)：1994232343
Application date： Oct. 25, 1993
Publication date： Aug. 19, 1994
Summary：

【要約】【目的】 指紋の認識および記憶が可能で指の墨付けを省略し得るセンサ装置を提供する。【構成】 少なくとも表面においてドープされたシリコンから成る基板11を備え、基板11の表面に格子状に、基板に対して電気的に絶縁されドープされたポリシリコンから成る膜132を配置し、各膜132が空所14を画成し、空所14が膜132と基板11の表面との間に配置されるように少なくとも2つの支持個所131において基板11と各膜132とを固く結合し、膜132への力の作用の際に変化するそれぞれ基板11と膜132との間の電気的量を読出しかつ記憶する読出しユニットを備える。

Claim (excerpt)：

少なくとも表面においてドープされているシリコンから成る基板(11、21)を備え、基板(11、21)の表面に格子状に、基板に対して電気的に絶縁されているドープされたポリシリコンから成る膜(132、232)が配置されており、各膜(132、232)が空所(14、24)を張っており、また空所(14、24)が膜(132、232)と基板(11、21)の表面との間に配置されるように少なくとも2つの支持個所(131、231)において基板(11、21)と固く結合されており、膜(132、232)への力の作用の際に変化するそれぞれ基板(11、21)と膜(132、232)との間の電気的量を読出しかつ記憶する読出しユニットが設けられていることを特徴とする指紋認識のためのセンサ装置。

IPC (2)：

H01L 27/04 ,  G06F 15/64