光硬化性組成物およびその用途

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：鈴木俊一郎 , 牧村浩次 , 高畑ちより , 鈴木亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002345526
Publication number (International publication number)：2004177772
Application date： Nov. 28, 2002
Publication date： Jun. 24, 2004
Summary：

【解決手段】本発明の光硬化性組成物は、(A)光増感作用を有する、炭素クラスターおよび/またはその誘導体、(B)分子内に複数のヘテロ環を有する化合物、および、必要に応じて(C)非感光性樹脂を含有することを特徴としている。このような本発明の光硬化性組成物は、分子内にシロキサン結合を有する化合物を含有することも好ましい。【効果】本発明によれば、ネガ型フォトレジスト組成物として好適に使用でき、高い感度特性で微細なパターンを形成でき、耐熱性、耐薬品性、絶縁性に優れた硬化膜を製造できる光硬化性組成物を提供することができる。本発明の光硬化性組成物を用いると、半導体素子、液晶素子などの製造や、各素子の実装分野で使用される感光性絶縁膜を、少ない熱履歴/光照射履歴で製造することができる。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)光増感作用を有する、炭素クラスターおよび/またはその誘導体、 (B)分子内に複数のヘテロ環を有する化合物、および、必要に応じて (C)非感光性樹脂を含有することを特徴とする光硬化性組成物。

IPC (7)：

G03F7/004 , C08F8/00 , C08G59/14 , C08G73/10 , G03F7/038 , G03F7/075 , H01L21/027

FI (9)：

G03F7/004 503Z , G03F7/004 501 , C08F8/00 , C08G59/14 , C08G73/10 , G03F7/038 501 , G03F7/038 504 , G03F7/075 511 , H01L21/30 502R

F-Term (77)：

2H025AA06 , 2H025AA10 , 2H025AA20 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BC12 , 2H025BC42 , 2H025BC69 , 2H025BC78 , 2H025BC81 , 2H025BE00 , 2H025CA48 , 2H025CC20 , 4J036AE07 , 4J036AF06 , 4J036CA30 , 4J036HA01 , 4J036HA02 , 4J036HA03 , 4J036JA09 , 4J043RA34 , 4J043SA06 , 4J043SA46 , 4J043SA47 , 4J043SA62 , 4J043SA71 , 4J043SA85 , 4J043TA04 , 4J043TA12 , 4J043TA14 , 4J043TA22 , 4J043UA031 , 4J043UA041 , 4J043UA051 , 4J043UA082 , 4J043UA092 , 4J043UA121 , 4J043UA131 , 4J043UA141 , 4J043UA212 , 4J043YB01 , 4J043YB06 , 4J043YB21 , 4J043YB22 , 4J043YB32 , 4J043YB35 , 4J043YB37 , 4J043ZB22 , 4J100AB02Q , 4J100AB03Q , 4J100AB07P , 4J100AJ01P , 4J100AJ02P , 4J100AJ08P , 4J100AJ09P , 4J100AJ10P , 4J100AL03Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL09P , 4J100AL09Q , 4J100AS02Q , 4J100AS03Q , 4J100BA03P , 4J100BA16P , 4J100BA42Q , 4J100BC43P , 4J100BC43Q , 4J100CA31 , 4J100HA25 , 4J100HA61 , 4J100HC38 , 4J100HC63 , 4J100HC72 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-243450 Applicant：理化学研究所

Return to Previous Page