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J-GLOBAL ID：200903057663123910

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 阿出川 豊 ,  丹 史郎 ,  曽呂利 忠弘
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001272097
Publication number (International publication number)：2002169295
Application date： Sep. 07, 2001
Publication date： Jun. 14, 2002
Summary：

【要約】【課題】 特に半導体デバイス等の製造において、解像力に優れたレジスト組成物、更には高解像力に加えて孤立ラインの線幅再現性に優れたレジスト組成物及び高解像力に加えて高感度、プロファイル形状が良好な電子線又はX線用レジスト組成物を提供すること。【解決手段】テロメリゼーション法もしくはオリゴメリゼーション法により製造されたフルオロ脂肪族化合物から導かれたフルオロ脂肪族基を側鎖に有する高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、及び重量平均分子量が3,000を超え、300,000以下であり特定の構造を有するアルカリ可溶性樹脂または酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とする電子線またはX線用化学増幅系ポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)?@酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、?Aアルカリ可溶性樹脂及び酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する低分子化合物、又は?B酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂及び酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する低分子化合物と、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)テロメリゼーション法もしくはオリゴメリゼーション法により製造されたフルオロ脂肪族化合物から導かれたフルオロ脂肪族基を側鎖に有する高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (33)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BC23 ,  2H025BC42 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB00P ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AE09P ,  4J100AL08P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05P ,  4J100BC43P ,  4J100BC48P ,  4J100BC49P ,  4J100CA04 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-275334   Applicant：富士写真フイルム株式会社