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J-GLOBAL ID：200903057685976193
ポリエチレンの製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴木 俊一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996050460
Publication number (International publication number)：1997235312
Application date： Mar. 07, 1996
Publication date： Sep. 09, 1997
Summary：
【要約】【課題】 成形性に優れ、しかも機械強度および剛性に優れ、ブロー成形、真空・圧空成形、カレンダー成形、インフレーション成形、押出成形、発泡成形、延伸フィルム成形、射出成形などの種々の成形方法により広範な用途の製品に成形することができるポリエチレンの製造方法を提供する【解決手段】特定の遷移金属化合物(A)と、(B-1) 有機アルミニウム化合物、(B-2) 有機アルミニウムオキシ化合物、(B-3) 前記遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成する化合物から選ばれる前記化合物(A)を活性化させうる化合物(B)と、微粒子担体(C)とからなる担体担持型メタロセン触媒の存在下に、エチレンを重合させて、(1) 密度が0.900〜0.980g/cm3 、(2) MFRが0.001〜3000g/10分、(3) MFR値とMT値とが、特定関係式を満たし、(4) 径スウェル比が1.35を超えるポリエチレンを製造する。
Claim (excerpt)：
(A)下記式[I]で示される遷移金属化合物と、(B)この遷移金属化合物(A)を活性化させうる化合物であって、かつ(B-1) 有機アルミニウム化合物、(B-2) 有機アルミニウムオキシ化合物、および(B-3) 前記遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成する化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物と、(C)微粒子担体と、からなる担体担持型メタロセン触媒の存在下に、エチレンを重合させて、(1) 密度が0.900〜0.985g/cm3 であり、(2) メルトフローレート(MFR:ASTM D1238、190°C、2.16kg荷重下で測定)が0.001〜3000g/10分であり、(3) このメルトフローレート(MFR)値と、メルトテンション(MT)値とが、関係式 log〔MT〕≧ -0.4log〔MFR〕+0.70を満たし、(4) 径スウェル比が1.35を超えるポリエチレンを製造することを特徴とするポリエチレンの製造方法;【化1】(式中、Mは、周期律表第IV〜VIB族の遷移金属原子であり、R1 、R2 、R3 およびR4 は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基またはリン含有基であり、また互いに隣接する基の一部が結合してそれらの基が結合する炭素原子とともに少なくとも1個の環を形成していてもよく、X1 およびX2 は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基またはイオウ含有基であり、Yは、2価のケイ素含有基、2価のゲルマニウム含有基である。〕。
IPC (2)：
C08F 4/642 MFG
, C08F 10/02
C08F 4/642 MFG
, C08F 10/02
