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J-GLOBAL ID:200903057687334253

基板端縁洗浄装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 杉谷 勉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991360174
Publication number (International publication number):1993185011
Application date: Dec. 27, 1991
Publication date: Jul. 27, 1993
Summary:
【要約】【目的】 洗浄液の供給量を少なくして角型基板の端縁の不要薄膜を良好に洗浄除去できるようにする。【構成】 回転塗布によって表面に薄膜が形成された角型基板1を鉛直方向の軸芯P周りで回転可能に載置保持する基板保持手段2を設け、その基板保持手段2に、角型基板1と一体回転自在に洗浄液を吐出して不要薄膜を洗浄除去する洗浄液ノズル3を設け、角型基板1と一体回転しながら、角型基板1の裏面側で端縁の少なくとも回転方向上手側に洗浄液ノズル3から洗浄液を吐出して不要薄膜を洗浄除去する。
Claim (excerpt):
回転塗布によって表面に薄膜が形成された角型基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に載置保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記角型基板と一体回転自在に設けられて、前記角型基板の裏面側で端縁の少なくとも回転方向上手側に洗浄液を吐出して不要薄膜を洗浄除去する洗浄液ノズルと、を備えた基板端縁洗浄装置。
IPC (4):
B05C 11/08 ,  B05C 9/12 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

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