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J-GLOBAL ID：200903057719571007
材料溶解装置およびこれを設置した射出成型機
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：
佐々木 宗治
, 小林 久夫
, 木村 三朗
, 大村 昇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002369179
Publication number (International publication number)：2004195527
Application date： Dec. 20, 2002
Publication date： Jul. 15, 2004
Summary：
【課題】最小量の不活性ガスの使用によって成型品への酸化物等または気泡の取り込みを解消し、さらに、スクリューを用いないで射出成型を可能にする、射出成型機用の材料溶解装置およびこれを設置した射出成型機を得ることを目的とする。【解決手段】射出成型機2の射出室60とは別に、材料3溶解する筒体30を設け、該筒体30の底部と射出成型機2の射出室60とを連通する連通路50に、溶解した材料4が射出室60から筒体30に逆流することを防止する逆流防止手段40を配置する。また、前記筒体30の内部に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段91を設ける。よって、酸化物等の発生を最小に抑えて材料を溶解することができ、発生した酸化物等は浮上するから良質な成型品が得られる。さらに、射出スクリューに代えて射出プランジャによって射出成型することが可能になる。【選択図】 図3
Claim (excerpt)：
内部に収容した材料を溶解する筒体と、
該筒体の底部と射出成型機の射出室とを連通する連通路と、
前記連通路に配置され、溶解した材料が前記射出室から前記筒体に逆流することを防止する逆流防止手段とを有することを特徴とする材料溶解装置。
IPC (4)：
B22D17/30
, B22D23/00
, B22D41/015
, B22D41/14
B22D17/30 Z
, B22D23/00 B
, B22D41/015
, B22D41/14
4E014AA01
, 4E014GA00
, 4E014NA03
