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J-GLOBAL ID:200903057724025894
軟磁性層を形成した基板の製造方法、軟磁性層を形成した基板、磁気記録媒体及び磁気記録装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 曉司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001341570
Publication number (International publication number):2003151128
Application date: Nov. 07, 2001
Publication date: May. 23, 2003
Summary:
【要約】【課題】 磁気記録媒体において、基板と磁気記録層の間に設けられた軟磁性層からのノイズを小さくし、低ノイズの磁気記録媒体、および該磁気記録媒体を用いた磁気記録装置を得る。【解決手段】基板上に軟磁性層を形成する方法において、該基板に直流バイアス電圧を加えながらスパッタリングを行う軟磁性層を形成した基板の作製方法、該作製方法により作製された軟磁性層を形成した基板、該軟磁性層の上にすくなくとも磁気記録層を設けた磁気記録媒体、および該磁気記録媒体を用いた磁気記録装置。
Claim (excerpt):
基板上に軟磁性層を形成する方法において、該基板に直流バイアス電圧を加えながらスパッタリングを行うことを特徴とする軟磁性層を形成した基板の製造方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (8):
5D006CA03
, 5D006CA05
, 5D006DA08
, 5D006EA03
, 5D112AA04
, 5D112BD03
, 5D112BD05
, 5D112FA04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特開昭62-121924
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磁気記録媒体および磁気記録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-272247
Applicant:富士通株式会社
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垂直磁気記録媒体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-040162
Applicant:日本ディジタルイクイップメント株式会社
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特開昭60-076026
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磁気記録媒体及び磁気記録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-385650
Applicant:三菱化学株式会社
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