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J-GLOBAL ID：200903057731737808

シリカ基材非反射性平面化層

Inventor： デリル デイー. ジエイ. オールマン ,  ブライアン アール. リー
Applicant, Patent owner： エヌ・シー・アール・コーポレイシヨン
Agent (1)： 西山 善章
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991261270
Publication number (International publication number)：1993027444
Application date： Sep. 13, 1991
Publication date： Feb. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】半導体シリコンウェーハ等の基板上に非反射性平面化層を与えるのに使用する、炭素含有量の高い染色したスピンオングラス組成物である。【構成】本スピンオングラス組成物は、光を吸収する有機染料を含んだ架橋したポリオルガノシロキサンポリマー溶液を含む。このポリオルガノシロキサンポリマーは少なくとも30原子量%の炭素とアミノオルガノトリアルコキシランとを含有する。このアルコキシ群は1ないし4の炭素原子を有する。【効果】これらの層はこれに設けたパターンをエッチングすることによりハードマスクとして使用できる。これらのハードマスクは多重層レジスタストとして使用し、またリトグラフィーマスクの作成に使用することができる。

Claim (excerpt)：

架橋ポリオルガノシロキサンと350°C-500°Cで安定な光吸収性の染料との溶液を含む染色したスピンオングラス組成物であって該ポリオルガノシロキサンが少なくとも30原子量パーセントの炭素とアミノオルガノトリアルコキシランとを含有し、該アルコキシ群が1-4の炭素原子を含むことを特徴とする染色したスピンオングラス組成物。

IPC (5)：

G03F 7/11 502 ,  G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-312643
  
• 特開平2-103052