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J-GLOBAL ID：200903057734809583

放射性物質除去法

Inventor： 西村 義一 ,  今井 靖子 ,  渡利 一夫 ,  高波 亮一 ,  安部 佳郎
Applicant, Patent owner： 太洋化学工業株式会社
Agent (1)： 林 孝吉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991229026
Publication number (International publication number)：1993066295
Application date： Sep. 09, 1991
Publication date： Mar. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 液中に混在している放射性物質特に放射性ストロンチウムを有効適切に除去することを目的とする。【構成】 キチン質の物質に液体を通過させるか又は該液体に該キチン質の物質を浸漬せしめて、該液体中に混在している放射性物質を該キチン質の物質にて吸着せしめて除去するようにしたことを特徴とする放射性物質除去法、及び上記キチン質の物質に代え、ハイドロキシアパタイト又はキチン質の物質とハイドロキシアパタイトとの複合体を用いて液中に混在する放射性物質を吸着せしめて除去する。

Claim (excerpt)：

キチン質の物質に液体を通過させるか又は該液体に該キチン質の物質を浸漬せしめて、該液体中に混在している放射性物質を該キチン質の物質にて吸着せしめて除去するようにしたことを特徴とする放射性物質除去法。

IPC (2)：

G21F 9/12 501 ,  G21F 9/12