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J-GLOBAL ID:200903057741076630
植物栽培方法及び植物栽培装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
平井 安雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007125552
Publication number (International publication number):2008278796
Application date: May. 10, 2007
Publication date: Nov. 20, 2008
Summary:
【課題】 より実用的で成長促進効果を十分に得ることができる植物栽培方法、及びその実施に適用する植物栽培装置を提供する。【解決手段】 本発明に係る植物栽培装置1にあっては、容器2内に所要距離を隔てて対向配置した電極3,3、パルス発生器5及び電源装置6を備えており、パルス発生器5及び電源装置6によって、両電極3,3間の基質Sに、電界強度が0.0417V/cm以上0.1667V/cm以下の電界、及び、電流密度が0.0110mA/cm2以上0.180mA/cm2以下の電流が、略50〜60回/秒の割合で発生するようになしてある。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
植物を栽培する基質中に、対をなす電極を互いに所定距離を隔てて対向配置し、両電極間の前記基質に、電界強度が0.0417V/cm以上0.1667V/cm以下の電界、及び電流密度が0.0110mA/cm2以上0.180mA/cm2以下の電流を発生させて、当該基質に配した植物を栽培することを特徴とする植物栽培方法。
IPC (2):
FI (2):
A01G7/04 A
, A01G31/00 620
F-Term (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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植物成長促進装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-039309
Applicant:NECトーキンセラミクス株式会社
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低周波刺激による光合成促進方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-252380
Applicant:学校法人明治大学
Cited by examiner (5)
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Article cited by the Patent:
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