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J-GLOBAL ID：200903057769522392

再生ヘッド及びその作製方法並びに磁気ディスク装置

Inventor： 小室 又洋 ,  芳田 伸雄 ,  府山 盛明
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998022961
Publication number (International publication number)：1999224411
Application date： Feb. 04, 1998
Publication date： Aug. 17, 1999
Summary：

【要約】【課題】巨大磁気抵抗効果膜を有する再生ヘッドの製作では、電極間隔を決定するフォトマスクと磁区制御間隔を決定するフォトマスクの2枚のフォトマスクを用いる必要があり、2枚のフォトマスク間の合わせ精度が問題となる。【解決手段】磁気抵抗効果膜上の電極膜と磁区制御膜上の電極膜が異なる材料から構成されているか、あるいは磁気抵抗効果膜端部に沿って電極膜の形状あるいは結晶粒が不連続にすることにある。

Claim (excerpt)：

磁気ディスク装置に用いる磁気記録再生ヘッドの再生部が感磁部,磁区制御膜,ギャップ膜,電極を有しており、磁気抵抗効果膜上の電極膜と磁区制御膜上の電極膜が異なる材料から構成されているか、あるいは磁気抵抗効果膜端部に沿って電極膜の形状あるいは結晶粒が不連続になっていることを特徴とする再生ヘッド。