Pat

J-GLOBAL ID：200903057777575403

ピラゾロ〔3,2-c〕-1,2,4-トリアゾール系化合物の製造方法

Inventor： 恩田 浩幸 ,  太田 勝次
Applicant, Patent owner： コニカ株式会社
Agent (1)： 中島 幹雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991322379
Publication number (International publication number)：1993140166
Application date： Nov. 12, 1991
Publication date： Jun. 08, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 チアジアジン系化合物からピラゾロ〔3,2-c〕-1,2,4-トリアゾール系化合物を高純度に製造する方法。【構成】 一般式〔I〕で示されるチアジアジン系化合物から一般式〔II〕、一般式〔III〕で示されるトリアゾール系化合物を製造し、これらの工程で副生するイオウを、芳香族炭化水素系溶媒を少なくとも1種含有する再結晶溶媒で再結晶することにより除去する。芳香族炭化水素系溶媒を少なくとも1種含有する再結晶溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ニトロベンゼン等が挙げられる。芳香族炭化水素系溶媒に混合できる溶媒には、脂肪族炭化水素類、アルコール類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、ケトン類、ニトリル類、水等が挙げられる。〔式中、R1およびR2は水素原子または置換基、Xは発色現像主薬の酸化体との反応により離脱しうる置換基を示す〕

Claim (excerpt)：

一般式〔I〕で示される1,2,4-トリアゾロ〔3,4-b〕-1,3,4-チアジアジン系化合物を中間体として、一般式〔II〕または一般式〔III〕で示されるピラゾロ〔3,2-c〕-1,2,4-トリアゾール系化合物を生成させる複数工程のうち、いずれかの工程に副生成するイオウを、芳香族炭化水素系溶媒を少なくとも1種含有する再結晶溶媒で再結晶することにより除去する工程を含むことを特徴とするピラゾロ〔3,2-c〕-1,2,4-トリアゾール系化合物の製造方法。【化1】一般式〔I〕中、R1 ,R2 は水素原子または置換基を表す。【化2】一般式〔II〕中、R1 ,R2 は、一般式〔I〕におけるR1 ,R2 と同義である。【化3】一般式〔III〕中、R1 ,R2 は、一般式〔I〕におけるR1 ,R2 と同義ある。Xは発色現像主薬の酸化体との反応により離脱しうる置換基を表す。

IPC (3)：

C07D487/04 139 ,  G03C 7/38 ,  G03C 7/32