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J-GLOBAL ID：200903057777579450

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 水谷 一良
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003008380
Publication number (International publication number)：2004219822
Application date： Jan. 16, 2003
Publication date： Aug. 05, 2004
Summary：

【課題】160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ塗布性、現像欠陥を満足するポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大させる基を有するフッ素原子含有樹脂及び(B)活性光線線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物に於いて、(A)成分の樹脂が、ヒドロキシアルキル基を有する繰り返し単位を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つ酸の作用により分解し、アルカリ現像液への溶解度を増大させる基を有するフッ素原子含有樹脂及び (B)活性光線の照射により、酸を発生する化合物 を含有するポジ型レジスト組成物に於いて、(A)成分の樹脂が、ヒドロキシアルキル基を有する繰り返し単位を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (8)：

G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  C08F214/18 ,  C08F216/14 ,  C08F220/12 ,  C08F220/28 ,  C08F232/00 ,  H01L21/027

FI (8)：

G03F7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F214/18 ,  C08F216/14 ,  C08F220/12 ,  C08F220/28 ,  C08F232/00 ,  H01L21/30 502R

F-Term (53)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07Q ,  4J100AC26P ,  4J100AC27P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AR04P ,  4J100AR11Q ,  4J100AR11R ,  4J100AR11S ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15R ,  4J100BA15S ,  4J100BB07P ,  4J100BB07R ,  4J100BB17P ,  4J100BB17Q ,  4J100BB17S ,  4J100BC08P ,  4J100BC08R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100FA27 ,  4J100JA38