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J-GLOBAL ID:200903057797006758
露光装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
吉嶺 桂 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998135934
Publication number (International publication number):1999317343
Application date: May. 01, 1998
Publication date: Nov. 16, 1999
Summary:
【要約】【課題】 光学材料の曇りによる照度低下や、パターンのズレ等の露光時の障害を無くした露光装置を提供する。【解決手段】 内部に空調装置9と、紫外域の光を放出する光源2を有する露光装置1において、前記紫外光が照射されている少なくとも1部に光触媒13〜15を設置することとしたものであり、前記露光装置内の空気流路には、吸着材、イオン交換繊維等のイオン性物質除去材11を設置することができる。
Claim (excerpt):
内部に空調装置と、紫外域の光を放出する光源を有する露光装置において、前記紫外光が照射されている少なくとも1部に光触媒を設置したことを特徴とする露光装置。
IPC (2):
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
FI (2):
H01L 21/30 503 G
, G03F 7/20 521
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-002956
Applicant:株式会社ニコン
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光露光システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-266048
Applicant:日本電信電話株式会社
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半導体製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-081299
Applicant:株式会社ニコン
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エアーフィルター用濾材およびそれを用いたエアーフィルター
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-127490
Applicant:日東電工株式会社
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照明光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-218278
Applicant:株式会社ニコン
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浄化用フィルターおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-059647
Applicant:日東電工株式会社
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半導体製造用露光装置およびこれを用いた半導体デバイス製造プロセス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-265690
Applicant:キヤノン株式会社
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露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-146094
Applicant:株式会社荏原製作所
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光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-124532
Applicant:株式会社ニコン
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