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J-GLOBAL ID：200903057797186039

透光性電磁波シールド材料とその製造方法

Inventor： 陶山 寛志 ,  石橋 達男 ,  奥村 秀三
Applicant, Patent owner： 日本写真印刷株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997158056
Publication number (International publication number)：1998056290
Application date： May. 29, 1997
Publication date： Feb. 24, 1998
Summary：

【要約】【目的】 視認性が優れ、電磁波シールド効果も高い透光性電磁波シールド材料とその製造方法を提供する。【構成】 透明基体1の一面に金属層2を設けたものとして、厚さ35μmの鉄箔を貼り合わせた厚さ100μmのポリエステルフィルムを用いた。この鉄箔上にポジ型フォトレジスト(東京応化工業社製OFPR800)をベタ形成し、フォトマスクを用いて露光・現像して幅10μm、目の大きさ100×100μmの格子状にパターン化した。次に、鉄箔を塩化第二鉄水溶液によりエッチングした後、レジストを剥膜した。これを、リン酸二水素亜鉛0.1Mを含む80°Cの水溶液中に2分間浸漬し、金属層2の表層部分を黒色を呈する金属化合物3として透光性電磁波シールド材料を得た。

Claim (excerpt)：

透明基体上にパターン状に形成された金属層の表層部分が黒色を呈する金属化合物であることを特徴とする透光性電磁波シールド材料。

IPC (2)：

H05K 9/00 ,  B32B 15/08

FI (3)：

H05K 9/00 V ,  H05K 9/00 W ,  B32B 15/08 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-126624
  
• 特開昭62-051140
  
• 特開昭61-134189