Pat

J-GLOBAL ID：200903057803245441

ジアリールヘプタノイド誘導体及びマトリックスメタロプロテアーゼ活性阻害剤

Inventor： 岡崎 具視 ,  小林 孝次 ,  猪股 慎二 ,  福原 忠雄 ,  吉田 誠一
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： 岩橋 祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000212988
Publication number (International publication number)：2002030081
Application date： Jul. 13, 2000
Publication date： Jan. 29, 2002
Summary：

【要約】【課題】 組織マトリックスタンパク質の分解に大きな影響を与えるマトリックスメタロプロテアーゼ(MMPs)の活性に対して優れた阻害作用を有し、皮膚老化の改善・予防や、組織マトリックスの代謝異常による疾患の治療・予防に有効な化合物、およびこれを有効成分とするMMPs阻害剤、医薬組成物、化粧用組成物を提供する。【解決手段】 一般式(I)のジアリールヘプタノイド誘導体。【化1】(R1、R2は、H、C1-6アルキル基又はC2-7アシル基;A、Bの炭素間結合は一重結合又は二重結合を表す。)

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で示されることを特徴とするジアリールヘプタノイド誘導体。【化1】(一般式(I)中、R1、R2は、それぞれ水素原子、C1-6アルキル基又はC2-7アシル基であり、A、Bの炭素間結合は一重結合又は二重結合を表す。)

IPC (16)：

C07D313/00 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/035 ,  A61K 31/335 ,  A61K 35/78 ,  A61P 1/02 ,  A61P 1/04 ,  A61P 17/00 ,  A61P 17/02 ,  A61P 17/16 ,  A61P 19/02 ,  A61P 19/10 ,  A61P 27/04 ,  A61P 29/00 101 ,  A61P 35/00 ,  A61P 43/00 111

FI (21)：

C07D313/00 ,  A61K 7/00 D ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 N ,  A61K 7/00 R ,  A61K 7/00 M ,  A61K 7/00 U ,  A61K 7/035 ,  A61K 31/335 ,  A61K 35/78 C ,  A61P 1/02 ,  A61P 1/04 ,  A61P 17/00 ,  A61P 17/02 ,  A61P 17/16 ,  A61P 19/02 ,  A61P 19/10 ,  A61P 27/04 ,  A61P 29/00 101 ,  A61P 35/00 ,  A61P 43/00 111

F-Term (81)：

4C062JJ70 ,  4C083AA082 ,  4C083AA111 ,  4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AB032 ,  4C083AB212 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB352 ,  4C083AB432 ,  4C083AB442 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC092 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC182 ,  4C083AC242 ,  4C083AC262 ,  4C083AC352 ,  4C083AC402 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC482 ,  4C083AC532 ,  4C083AC542 ,  4C083AC582 ,  4C083AC642 ,  4C083AC792 ,  4C083AC841 ,  4C083AC842 ,  4C083AD042 ,  4C083AD092 ,  4C083AD112 ,  4C083AD162 ,  4C083AD172 ,  4C083AD512 ,  4C083AD662 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083CC07 ,  4C083CC12 ,  4C083DD21 ,  4C083DD23 ,  4C083DD31 ,  4C083DD41 ,  4C083FF01 ,  4C083FF05 ,  4C086AA01 ,  4C086AA02 ,  4C086AA03 ,  4C086BA10 ,  4C086MA63 ,  4C086NA14 ,  4C086ZA33 ,  4C086ZA67 ,  4C086ZA68 ,  4C086ZA89 ,  4C086ZA96 ,  4C086ZA97 ,  4C086ZB15 ,  4C086ZB26 ,  4C086ZC20 ,  4C088AB81 ,  4C088AC11 ,  4C088BA08 ,  4C088CA04 ,  4C088MA63 ,  4C088NA14 ,  4C088ZA33 ,  4C088ZA67 ,  4C088ZA68 ,  4C088ZA89 ,  4C088ZA96 ,  4C088ZA97 ,  4C088ZB15 ,  4C088ZB26 ,  4C088ZC20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• ムコ多糖類断片化抑制剤、活性酸素消去剤、抗酸化剤および化粧料。
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-196230   Applicant：株式会社ナリス化粧品
• 人体過剰対応抑制剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-180241   Applicant：ポーラ化成工業株式会社
• 特開平3-190809
  
• 特開昭61-291515
  
• 肌の不均一性改善増強剤及びそれを含有する組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-186750   Applicant：ポーラ化成工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• Chemical & Pharmaceutical Bulletin (1990), 38(4), 1045-1048
• CA Accession no. 129:159142( Beijing Yike Daxue Xuebao ,29(3),p229-230 (1997))