微細レジストパターン形成材料

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992289562
Publication number (International publication number)：1993297579
Application date： Oct. 02, 1992
Publication date： Nov. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】基板に各種パターン加工を施す際に用いられる微細レジストパターン形成材料の提供を目的とする。【構成】支持体上に、感光性層、保護層として保護層と感光性層との界面粘着力が支持体と感光性層との界面粘着力より低く、かつ感光性層の内部凝集力よりも弱くする表面処理を施してなるプラスチックフィルムを順次設けてなる微細レジストパターン形成材料。【効果】従来の印刷法に比べて微細かつ高精度で、フォトリソグラフィー法に匹敵する解像度を有するレジストパターンが、作業性が良く安価に形成できる。

Claim (excerpt)：

支持体上に設けた感光性層をパターン露光し、感光性層における露光部および非露光部の粘着性の差を生ぜしめ、基板等の被転写体に転写される感光性層の内部凝集力が支持体との界面粘着力および被転写体との界面粘着力より小さいパターン形成材料を用いて、熱、加圧により被転写体にパターンを転写し、熱または光により硬化させるレジストパターン形成材料において、支持体上に設けられた感光性層の上に、保護層と感光性層との界面粘着力が支持体と感光性層との界面粘着力より低く、かつ感光性層の内部凝集力よりも弱くする表面処理を施してなるプラスッチックフィルムを保護層として用いたことを特徴とする微細レジストパターン形成材料。

IPC (5)：

G03F 7/004 522 , G03F 7/004 505 , G03F 7/004 507 , H05K 3/00 , H05K 3/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平3-045954
特開昭62-260143
特開昭62-075438

Show all

Return to Previous Page